Intel加速7nm EUV工藝:2021年量產 Xe架構GPU首發

2019年10月10日 21:52 次閱讀 稿源:快科技 條評論

盡管2019年Intel已經量產了10nm工藝,但是因為多年延期,導致10nm工藝進度沒跟上,目前還處于產能爬坡階段,以致于Intel的處理器出現供應短缺的問題。為了徹底解決這些問題,Intel還在努力推進7nm工藝,最快2021年量產。

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7nm是Intel下一代工藝的重要節點,而且是高性能工藝,其地位堪比現在的14nm工藝,而且它還是Intel首次使用EUV光刻的制程工藝,意義重大。

根據Intel之前公布的信息,其7nm EUV工藝相比10nm工藝晶體管密度翻倍,每瓦性能提升20%,設計復雜度降低了4倍。

7nm工藝的首款產品就是Xe架構的GPU加速芯片,主要應用于數據中心AI及高性能計算,最快2021年量產,也就是2年后7nm EUV就能擔大梁了。

目前Intel正在加速7nm EUV工藝的步伐,今年8月份就訂購用于7nm EUV工藝節點的材料和設備,比預期速度更快。

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